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Please use this identifier to cite or link to this item: http://ntour.ntou.edu.tw:8080/ir/handle/987654321/11326

Title: 矽蝕刻技術研製高感度氧化鋅薄膜聲波感測元件應用於水下目標物偵測之研究
The Si Etching Technique for High Sensitivity ZnO Thin Film Acoustic Sensor for Underwater Target Detection and Identification
Authors: 張忠誠
Contributors: NTOU:Department of Electrical Engineering
國立臺灣海洋大學:電機工程學系
Keywords: 矽蝕刻;高感度;氧化鋅;聲波感測元件;水下目標物
Si etching;High sensitivity;ZnO;Acoustic sensor;Underwater target
Date: 1993
Issue Date: 2011-06-28T08:09:06Z
Publisher: 行政院國家科學委員會
Abstract: 本計畫的目的在於研製高感度之聲波感測元件 ,為此進行矽蝕刻技術之研究,以所得之矽蝕刻技 術配合氧化鋅薄膜之沉積以及壓電材料適當之極 化而得到高感度之聲波感測元件.矽蝕刻技術將進行異向蝕刻和同蝕刻技術之研究 ,同時對所沉積之氧化鋅薄膜蝕刻也將進行研究, 在進行蝕刻實驗的過程將以化學蝕刻法,DC Sputter 離子蝕刻法和電化學蝕刻法來研究,在化學蝕刻 方面,將選擇適當之化學藥品,如EDP,HNA,KOH等化學 蝕刻溶液進行實驗,同時對常用之矽晶片包括(100) ,(111)晶面之晶片和P-型N-型之矽晶片都將進行蝕 刻實驗,對其各別之蝕刻速度和蝕刻品質都將加 以測試,最後也將進行氧化光罩步驟之圖案蝕刻, 以為進而研製高感度之聲波感測元件.另外在DC Sputter離子蝕刻和電化學蝕刻方面都將進行類似 之研究,至於在氧化鋅薄膜蝕刻方面將進行同向 蝕刻研製.
Relation: NSC82-0209-E019-041
URI: http://ntour.ntou.edu.tw/ir/handle/987654321/11326
Appears in Collections:[電機工程學系] 研究計畫

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