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Please use this identifier to cite or link to this item: http://ntour.ntou.edu.tw:8080/ir/handle/987654321/11100

Title: 超高真空化學氣相沈積低溫新穎複晶矽薄膜電晶體之製作與可靠度的研究---子計畫III:超高真空化學氣相沈積新穎複晶矽薄膜電晶體之低溫閘極介電層與新結構之研究(II)
The Fabrication and Reliability of Low Temperature Novel UHVCVD Poly-Si TFTs (II)
Authors: 張俊彥
Contributors: NTOU:Department of Electrical Engineering
國立臺灣海洋大學:電機工程學系
Keywords: 超高真空化學氣相沈積法;複晶矽;可靠度;低溫
UHVCVD;Polysilicon;Reliability;Low temperature
Date: 2000
Issue Date: 2011-06-28T08:08:24Z
Publisher: 行政院國家科學委員會
Relation: NSC89-2213-E019-007
URI: http://ntour.ntou.edu.tw/ir/handle/987654321/11100
Appears in Collections:[電機工程學系] 研究計畫

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